半导体制程

  半导体产品

我们广泛的薄膜式滤芯和深度型滤芯适用于从使用点到批量分配，可提供制程液体和气体的污染控制。研磨液混合和分配系统中的微过滤通常使用多道式滤芯式过滤器，主要用来去除颗粒并确保抛光工具的正常运作。我们的CMP过滤器可以稳定研磨液的化学性质，控制研磨液中的颗粒大小，有效去除污染物。

  电子级化学品

确保在散装和使用点位置的化学品无污染是电子工艺的关键。我们从深度过滤器到高纯度薄膜式过滤器的多样化产品线可针对需求提供最佳解决方案。薄膜式过滤器最高可捕捉0.02微米级别的颗粒和杂质来防止制程污染。

  平板显示器

随着对高解析度需求日益增加，对高效益的污染控制成本的需求也在增加，其中就包括制程液体的过滤。我们为光刻胶、蚀刻剂、剥离剂和用于混合溶液和冲洗显示器的超纯水提供多种过滤介质选择。

  数据存储装置

随着越来越大的存储需求，杂质和污染控制变得极为关键。任何颗粒、杂质、金属离子析出和可萃取物都可能损害最终产品。我们为CMP研磨液、超纯水、基材清洗和制备、介质清洗以及电镀和涂层操作中使用的化学品提供过滤解决方案。

  电镀

我们的聚丙烯深度式融喷滤心适用于电镀和印刷电路板。而活性炭过滤芯可去除电镀槽中的有机污染物和氯。电镀、蚀刻和清洗槽经常通过过滤器进行再循环以保持纯度。

  光刻机

光阻剂、显影剂、涂料和有机溶剂的过滤通过去除大量化学品中的污染物来提供高质量的控制。光伏工艺对污染物的存在极为敏感。终端过滤器通过去除颗粒和防止微气泡的形成来优化光刻胶的产量。